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等離子化學氣相沉積-PECVD，為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區管式爐、三通道質量流量混氣系統和真空系統組成。此款設備用于生長納米線、石墨烯或SIC薄膜等

微量探索型熱處理回轉爐適用于粉末材料回轉燒結，物料均勻旋轉受熱效果好。石英爐管放置于爐體中間，爐管另一端采用卡箍連接旋轉密封組件，方便物料出入及管內氣壓監測。

ZYXG-1200系列氣氛箱管熱處理混合爐采用優質電阻絲作為加熱元件,額定溫度1100℃,最高溫度可達1200℃(≤30min)。作為單純的箱式爐用,可對樣品在空氣環境下進行熱處理;作為管式爐用,可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理;采用宇電智能控溫儀表和K型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1C。可應用于氣氛下燒結等實驗環境。內置雙層風冷結構,表面溫度≤60℃

ZYX-1200 系列桌面級真空氣氛熱處理箱式爐是一款專為低氧熱處理場景設計的高精度設備，憑借優異的真空性能與精準溫控能力，為材料加工提供潔凈、穩定的處理環境，廣泛適用于科研實驗與小批量生產。真空腔體密封嚴密，可快速抽至目標真空度，有效隔絕空氣，避免材料氧化、脫碳，保障處理后材料的純度與性能；搭載智能控溫系統與高靈敏熱電偶，控溫精度高，支持多段程序升溫，適配不同材料的退火、燒結、回火等工藝需求。

高溫高壓管式熱處理爐是專為材料高溫處理、催化劑制備及特種材料研發設計的高精度科研設備。可實現陶瓷、金屬氧化物、半導體材料的高溫高壓煅燒,負載型催化劑的活性組分焙燒與活化,以及石墨烯、碳納米管等納米材料的高溫合成與熱處理,為高校、科研院所、企業研發中心提供“高溫+高壓+精準氣氛控制”的多維度材料制備與改性平臺，滿足材料品體生長、相結構調控、性能優化等研究需求。